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今年设计自动化大会的主题—45nm芯片设计
2008-06-03 16:24  点击:131
   即将到来的设计自动化大会(DesignAutomationConference,DAC)将有一个特殊的管理日技术研讨会再次讨论如何处理采用45nm工艺技术设计芯片所出现的棘手问题。

    大会将在6月8日开始举行,其中持续一天的管理日技术研讨会被安排在6月10日进行。这个第四届每年一度的盛事包括了无晶圆公司和IDM厂商的7个高管的讲演,其中包括英特尔,高通和意法半导体。    

    他们将提供解决问题的权衡分析和决策准则,例如向新技术节点的转移,优化大批量生产和克服功耗的制约。

    其中的演讲者包括:    

    ElinoraYoeli,英特尔移动事业部的副总裁,将探讨英特尔45nmAtom低功耗处理器的主要设计挑战。    

    PhilippeMagarshack,意法半导体研发中心的副总裁,将讨论45和40nm低功耗设计在无线多媒体SoC上的应用。    

    CharlesMatar,高通的工程部副总裁,将讲述在低功耗手机中采用45nm工艺技术设计新的无线SOC的技术细节和挑战。

    AndrewChang,联发科设计技术副总裁,将讨论台湾芯片制造商的65nm芯片布局布线的设计策略。

    BobPitts,德州仪器公司的45nm平台经理,将探讨他的团队如何优化45nm低功耗数字基带SoC的设计。

    SrinivasNori,微软的Xbox硅片开发部的ASIC设计经理,将回顾Xbox360图像处理器设计时出现的各种挑战。  

    ManuelD’Abreu,SanDisk的一名主管,将探讨flash记忆体的大批量生产的设计规格相关问题。

    DAC将于6月8-13日在阿纳海姆会议中心举行。

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